Poliarizacijos plokštumos sukimo tyrimas

1. Darbo užduotis. Eksperimentiškai ištirti poliarizacijos plokštumos sukimo kampo priklausomybę nuo optiškai aktyvaus tirpalo koncentracijos bei nustatyti: žinomos koncentracijos tirpalo specifinį sukimą; tos medžiagos nežinomo tirpalo koncentraciją.
2. Teorinė dalis. Kai kurios medžiagos pasuka jomis sklindančios tiesiai poliarizuotos šviesos poliarizacijos plokštumą. Tokios medžiagos vadinamos optiškai aktyviomis. Tiesiai poliarizuotai šviesai sklindant optiškai aktyviu tirpalu, poliarizacijos plokštumos sukimo kampas

j = a l c (2.1)

Čia a - tirpalo specifinis sukimas; l – šviesos sklidimo tirpale kelio ilgis; c – masinė tūrinė aktyviosios medžiagos koncentracija tirpale (kg/m3). Iš (2.1) lygybės matyti, jog tirpalo specifinis sukimas skaitine savo verte lygus natūralaus poliarizacijos plokštumos sukimo kampui, nusklidus tiesiai poliarizuotai šviesai tirpalo vienetinį ilgį, esant 1 kg/m3 medžiagos koncentracijai. a priklauso nuo optiškai aktyvios medžiagos ir tirpiklio cheminės prigimties, temperatūros ir šviesos bangos ilgio.

Medžiagos, kurios nepasuka poliarizacijos plokštumos, vadinamos optiškai neaktyviomis.

Poliarizacijos plokštumos sukimo kryptis priklauso nuo medžiagos prigimties.

Tiesiai poliarizuotai šviesai sklindant optiškai aktyviu tirpalu, esančiu magnetiniame lauke, poliarizacijos plokštumos sukimo kampas lygus kampų jn ir jH algebrinei sumai:

j = jn + jH. (2.2)