Elektronolitografija

Litografija yra šiuolaikinės integrinių grandynų gamybos kertinis akmuo.Našumo ir defektų tankio problemą lemią kankurencija puslaidininkių pramonėje.Gamybos našumas turi tiesioginės įtakos gamybos savikainai, o defektai, kurie atsiranda litagrafinių procesų metu, jį mažina. Varomasis veiksnys yra nuolatinis prietaisų ir jų elementų matmenų mažinimas. Fotolitografijoje elektronų spindulių sistemos fotošablonų gamybai buvo naudojamas daugelį metų. Be to, daugelį metų šį technologija buvo vienas iš pažangių pažangių prietaisų tyrinėjimo metodų, nes elektronų spindulių įrenginų yra puiki skiriamoji geba, jų naudojamos elektronų bangos iligis apie 0,1 nm, taigi difrakcijos efektas čia nepasireiškia. Taigi šiame darbe bus aprašamos elektronolitagrafijos technologija. Nors dabar praktiškai elektronų litagrafija  yra naudojama gana rėtai, visgi jų koncepcija yra gana paprasta. Elektronų litagrafija tinka superdideliems IG su ypač mažais elementų matmenemis gaminti. Be to, darant elektronų litografija, piešinį reziste galima gauti ir be šablono.